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捷新冷光自創建之初，即以推動自主性設計、獨創生產技術與製程
為主軸，於1999年首創高反差印刷技術獲得中華民國專利，在此技
術的推波下又陸續研發出雙色、晶鑽、火焰等各系列之冷光產品，
並可廣泛應用於3C產品上。